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展览简介

艺术家：付美军

策展人：和丽斌

类型：布面油画、装置

地点：昆明金鼎山北路15号，金鼎1919艺术园，A区，苔画廊

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2012年，青年艺术家付美军开始创作一批用用网格和线条组成的作品，这些作品没有任何具体可辨识的形象，只有自由组合的色块和随机排列的直线、曲线，象数码软件中的矩阵，随时处于衍生、变化的过程之中。

几乎与此同一时期，他还用油漆在布面上、木板上进行涂刷颜色的实验，他先用胶带在布面或木板上粘贴出一些形状，再用油漆一遍遍地上色，每上一遍，就用胶带再贴一遍边线，然后再上色再贴边线，如此反反复复，最后布面或板面上形成很厚的平面的色块，同时最为醒目的，是色块之间的边界在一次次色域分割的偏差之后留下的层层的色面，如同古树年轮剖面的一层层递进生长的痕迹，这些作品充满了材质之美，单纯、饱满的色块分割，简洁、明快，形成极简的如色域绘画一样的美学倾向，不同之处是这一切效果不是深思熟虑的结果，而是在随机的、一次次偏差涂色之后形成的，绘画成为游戏，一种最简单的一遍遍平涂的方式，同时也就取消了叙事、描绘等以往绘画惯常的手段，他的作品中反复出现的直线、矩形、方形、梯形等形状，让我想到古希腊发现和推崇的绝对美的原则，他们认为世界是由方形、圆形、三角形等一些最基本形构成的，世界万物都离不开这些最基本形的构造，它们构成了这个世界的绝对美的原则。付美军的画中亦充满了上述的基本元素，不同之处是他在一遍遍用色块平涂的过程中基本形发生了偏差，一遍又一遍的偏差，结果是这些偏差的色块如偏离航道的探测卫星一样，离原定的目标越来越远，却意外发现了新的完全陌生的星球。付美军的绘画实践即充满了这样的走向未知的探险历程，他的绘画更像是一次次的冒险行动，在每一次走向歧路的过程中，虽前途未卜却充满无尽的可能。

和丽斌

2015.1.18

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付美军

1989 出生于云南大理

2008-2012 云南艺术学院美术学院油画一工作室

2013- 西南大学美术学院在读研究生

个展

2015 “绝对误差－付美军个展” 苔画廊 昆明

群展

2015 艺术北京

“五五二十五 1912新星星艺术节（第五届）上海巡展”Tata Coffee 上海

2014 “折桂枝”中国新锐绘画奖 hi艺术中心 北京

“1912（第五届）新星星艺术节” 今日美术馆 北京

“SURGE ART艺起北京“ 当代MOMA空中连廊 北京

2013 “暖春” 框余画廊 昆明

第七届全国中青年艺术家推荐展 上海 明圆

2012 “开启未来”提名展 框余画廊 昆明

2012 “破镜重圆”付美军、李渔钺作品展 TCG诺地卡画廊 昆明